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IB-19530CP 扫描电镜样品制备

扫描电镜样品制备,离子研磨仪,离子切片仪,满足市场多样化的需求,离子研磨仪IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台,通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。

 

高通量

自动加工程序

通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能,不需花费时间等待加工开始,短时间内就能刻蚀。

 

快速加工和精抛加工可以程序化,短时间内就能制备出高质量的截面。此外,利用间歇加工模式,还能抑制加工温度。

设置简单

多用途样品台

 功能性样品座采用模块化设计,在光学显微镜(另售)下也能调整加工位置。

 通过选择各种功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。

高耐久性遮光板

IB-19530CP 主要技术指标

  遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右,能支持高速率加工和长时间刻蚀。

离子加速电压 : 2~8kV

刻蚀速率 : 500μm/h

承载样品的最大尺寸 : 11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度)

样品摆动功能 : 刻蚀过程中,样品自动摆动±30° (专利:第4557130号)

自动加工开始模式 : 达到设定的压力值后可自动开始加工。

间歇加工模式 : 脉冲控制离子束流照射,可以抑制加工时产生的热量。

精抛加工模式 : 主加工结束后,自动开始精抛加工。

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应用图像

产品图像

加速电压控制在 7 kV,能观察到样品表面的台阶。

样品:陶瓷 SEI 加速电压 7 kV 倍率 × 11,000

根据观察需求制备样品,也能观察生物样品。

样品:小鼠气管 SEI 加速电压 8 kV 倍率 × 10,000 化学固定 LV-SEM 内冷冻干燥法

能清晰地观察到附着在样品表面的细小颗粒。

样品:金属粉末 SEI 加速电压 5 kV 倍率 × 5,000

能确认淀粉(球状结构)

样品:土豆 BES 加速电压 10 kV 低真空模式 30 Pa 倍率 × 250 LV 样品冷却架

离子束加工后, BEC 能确认金的通道衬度。

样品:铜基板截面 BEC 加速电压 5 kV 倍率 × 2,500

低加速电压能减轻电子束的辐照损伤,也能观察易受热损伤的样品。

样品:膈膜 SEI 加速电压 2.7 kV 倍率 × 20,000

IB-19530CP离子研磨仪

扫描电镜样品制备

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